神谷利夫教授（科学技術創成研究院、元素戦略研究センター副センター長）は第12回（2018年度）応用物理学会フェローに選出されました。 これは学術・研究における先駆的な業績，産業技術の開発・育成における重要な業績，教育・公益活動を通した人材育成や教育における業績などにより，応用物理学の発展に顕著な貢献をした者を表彰する制度です。 神谷教授の表彰タイトルは、「アモルファス酸化物半導体の欠陥・キャリア制御原理の研究と応用」です。
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